• Оборудование для чистой воды для электронной промышленности
• 1. Краткая информация о чистой воде для линейных плат:
При производстве линейных плат подавляющее большинство процессов мокрого процесса FPC / PCB схожи. Требования к чистой воде во всех технологических цепочках одинаковы. Гальваническая медь, олово, никелевое золото, которое мы обычно используем при производстве линейных плат; Химическое никелирование; PTH / Черные отверстия; Производственные процессы, такие как поверхностная обработка и травление, требуют различных требований к чистой воде. Поскольку в процессе производства линейных плат используются разные зелья, различия в производственных процессах, требования к качеству чистой воды также различны. Ключевые индикаторы: электропроводность (удельное сопротивление), общий кремний, pH, гранулы. Линейные платы и платы используют чистую воду из - за различных технологических процессов для производства чистой воды. В соответствии с нынешним использованием подавляющего большинства заводов по производству линейных плат, вероятно, разделены на следующие три типа: предварительно обработанные ионообменные системы чистой воды; Система обратного осмоса и ионообменного обмена; Высокоэффективное оборудование обратного осмоса EDI для сверхчистой воды
· 2 Типичный технологический процесс очистки воды для линейных плат
Процессы очистки воды на линейных панелях подразделяются примерно на следующие:
1. Использовать ионообменный режим, его процесс выглядит следующим образом: водопроводная вода → электрический клапан → многодиэлектрический фильтр → фильтр активированного угля → смягчитель воды → промежуточный резервуар для воды → насос низкого давления → точный фильтр → слой солнца → слой смолы → слой инь и слой смолы → слой смеси → микропористый фильтр → точка воды
2. Использовать двухступенчатый метод обратного осмоса, его процесс выглядит следующим образом: водопроводная вода → электрический клапан → многодиэлектрический фильтр → фильтр с активированным углем → размягчитель → промежуточный резервуар для воды → насос низкого давления → точный фильтр → главный компьютер обратного осмоса первого уровня → регулирование PH → смеситель → главный компьютер обратного осмоса второго уровня (поверхность обратного осмоса с положительным зарядом) → чистый резервуар → насос чистой воды → микропористый фильтр точка воды
3. Использование высокоэффективного метода обратного осмоса и EDI, процесс выглядит следующим образом: водопроводная вода → электрический клапан → многодиэлектрический фильтр → фильтр с активированным углем → смягчающий водяной аппарат → промежуточный резервуар → насос низкого давления → система регулирования PH → высокоэффективный смеситель → прецизионный фильтр → высокоэффективный обратный осмос → промежуточный резервуар → насос EDI → система → микропористый фильтр точка воды
· 3, Стандартные ссылки
Качество чистой воды для кинескопов и жидкокристаллических дисплеев (эмпирические данные)
Чистая вода для ИС
Национальный электронный стандарт чистой воды
• 4 Характеристики оборудования чистой воды на линейных платах компании
Чтобы удовлетворить потребности пользователей, достичь качества воды, соответствующего стандартам чистой воды для линейных плат и монтажных плат, минимизировать загрязнение на всех уровнях, продлить срок службы оборудования и уменьшить рабочую нагрузку по техническому обслуживанию оператора. В технологическом проектировании, чтобы взять водопроводную воду в соответствии с национальным стандартом в качестве источника воды, а затем иметь диэлектрический фильтр, фильтр активированного угля, натриевый ионный размягчитель, прецизионный фильтр и другие системы предварительной обработки, RO обратный осмос хост системы, ионообменный смеситель (EDI электрообессоливающая система) и так далее. В системе очистки воды линейной платы резервуар имеет систему управления уровнем жидкости, насос имеет устройство защиты высокого и низкого давления, онлайновый прибор контроля качества воды, электрический с использованием программируемого контроллера PLC, действительно является беспилотным; В то же время в процессе отбора материалов применяется единый подход к рекомендациям и требованиям заказчика, так что оборудование по сравнению с другими аналогичными продуктами, имеет более высокую рентабельность и надежность оборудования; Мы рекомендуем пользователям тратить меньше средств для достижения хороших результатов; Комплексное рассмотрение различных технологических процессов; Достижение низкой стоимости, отличный эффект.
III. Оборудование для чистой и высокочистой воды
1. Обзор использования сверхчистой воды в аккумуляторной промышленности
Аккумуляторная промышленность использует сверхчистую воду, включая сверхчистую воду для производства аккумуляторов, сверхчистую воду для производства литиевых батарей, сверхчистую воду для производства солнечных батарей и сверхчистую воду для панелей батарей. Оборудование электролита в батарее требует очень строгих требований к чистой воде, как правило, требует, чтобы проводимость воды превышала 0,1us / cm (удельное сопротивление 10 мегаометров), традиционный процесс, используемый для подготовки батареи для сверхчистой воды, часто использует оборудование для обмена смолой инь - ян, недостатком этого процесса является то, что смола инь - ян после использования в течение некоторого времени должна часто регенерироваться. По мере того, как технология разделения промышленных мембран продолжает развиваться, в настоящее время часто используется процесс обработки воды методом обратного осмоса или процесс получения сверхчистой воды через ионообменный смеситель (или электродеионизированный EDI) после первого уровня обратного осмоса
Чистая вода для производства аккумуляторов, литиевых батарей, солнечных батарей, сухих батарей и т.д.
Оборудование для очистки воды для электронной промышленности
• 1. Краткая информация о чистоте воды для линейных плат:
В процессе производства линейных плат большинство процессов мокрого процесса FPC / PCB схожи. Требования к чистой воде во всех технологических цепочках одинаковы. Гальваническая медь, олово, никелевое золото, которое мы обычно используем при производстве линейных плат; Химическое никелирование; PTH / Черные отверстия; Производственные процессы, такие как поверхностная обработка и травление, требуют различных требований к чистой воде. Поскольку в процессе производства линейных плат используются разные зелья, различия в производственных процессах, требования к качеству чистой воды также различны. Ключевые индикаторы: электропроводность (удельное сопротивление), общий кремний, pH, гранулы. Линейные платы и платы используют чистую воду из - за различных технологических процессов для производства чистой воды. В соответствии с нынешним использованием подавляющего большинства заводов по производству линейных плат, вероятно, разделены на следующие три типа: предварительно обработанные ионообменные системы чистой воды; Система обратного осмоса и ионообменного обмена; Высокоэффективное оборудование обратного осмоса EDI для сверхчистой воды
· 2 Типичный технологический процесс очистки воды для линейных плат
Процессы очистки воды на линейных панелях подразделяются примерно на следующие:
1. Использовать ионообменный режим, его процесс выглядит следующим образом: водопроводная вода → электрический клапан → многодиэлектрический фильтр → фильтр активированного угля → смягчитель воды → промежуточный резервуар для воды → насос низкого давления → точный фильтр → слой солнца → слой смолы → слой инь и слой смолы → слой смеси → микропористый фильтр → точка воды
2. Использовать двухступенчатый метод обратного осмоса, его процесс выглядит следующим образом: водопроводная вода → электрический клапан → многодиэлектрический фильтр → фильтр с активированным углем → размягчитель → промежуточный резервуар для воды → насос низкого давления → точный фильтр → главный компьютер обратного осмоса первого уровня → регулирование PH → смеситель → главный компьютер обратного осмоса второго уровня (поверхность обратного осмоса с положительным зарядом) → чистый резервуар → насос чистой воды → микропористый фильтр точка воды
3. Использование высокоэффективного метода обратного осмоса и EDI, процесс выглядит следующим образом: водопроводная вода → электрический клапан → многодиэлектрический фильтр → фильтр с активированным углем → смягчающий водяной аппарат → промежуточный резервуар → насос низкого давления → система регулирования PH → высокоэффективный смеситель → прецизионный фильтр → высокоэффективный обратный осмос → промежуточный резервуар → насос EDI → система → микропористый фильтр точка воды
· 3, Стандартные ссылки
Качество чистой воды для кинескопов и жидкокристаллических дисплеев (эмпирические данные)
Качество чистой воды для интегральных схем
• 4 Характеристики оборудования чистой воды на линейных платах компании
Чтобы удовлетворить потребности пользователей, достичь качества воды, соответствующего стандартам чистой воды для линейных плат и монтажных плат, минимизировать загрязнение на всех уровнях, продлить срок службы оборудования и уменьшить рабочую нагрузку по техническому обслуживанию оператора. В технологическом проектировании, чтобы взять водопроводную воду в соответствии с национальным стандартом в качестве источника воды, а затем иметь диэлектрический фильтр, фильтр активированного угля, натриевый ионный размягчитель, прецизионный фильтр и другие системы предварительной обработки, RO обратный осмос хост системы, ионообменный смеситель (EDI электрообессоливающая система) и так далее. В системе очистки воды линейной платы резервуар имеет систему управления уровнем жидкости, насос имеет устройство защиты высокого и низкого давления, онлайновый прибор контроля качества воды, электрический с использованием программируемого контроллера PLC, действительно является беспилотным; В то же время в процессе отбора материалов применяется единый подход к рекомендациям и требованиям заказчика, так что оборудование по сравнению с другими аналогичными продуктами, имеет более высокую рентабельность и надежность оборудования; Мы рекомендуем пользователям тратить меньше средств для достижения хороших результатов; Комплексное рассмотрение различных технологических процессов; Достижение низкой стоимости, отличный эффект.
III. Оборудование для чистой и высокочистой воды
1. Обзор использования сверхчистой воды в аккумуляторной промышленности
Аккумуляторная промышленность использует сверхчистую воду, включая сверхчистую воду для производства аккумуляторов, сверхчистую воду для производства литиевых батарей, сверхчистую воду для производства солнечных батарей и сверхчистую воду для панелей батарей. Оборудование электролита в батарее требует очень строгих требований к чистой воде, как правило, требует, чтобы проводимость воды превышала 0,1us / cm (удельное сопротивление 10 мегаометров), традиционный процесс, используемый для подготовки батареи для сверхчистой воды, часто использует оборудование для обмена смолой инь - ян, недостатком этого процесса является то, что смола инь - ян после использования в течение некоторого времени должна часто регенерироваться. По мере того, как технология разделения промышленных мембран продолжает развиваться, в настоящее время часто используется процесс обработки воды методом обратного осмоса пленки или процесс получения сверхчистой воды через ионообменный смеситель (или электродеионизированный EDI) после первого уровня обратного осмоса.